三星晶圓廠中多次成功的流片表明，新思科技數(shù)字和定制設(shè)計(jì)流程已具備生產(chǎn)就緒的能力
加利福尼亞州山景城2022年11月4日 /美通社/ -- 新思科技（Synopsys, Inc.，納斯達(dá)克股票代碼：SNPS）近日宣布，在雙方的長期合作中，三星晶圓廠（以下簡稱"三星"）已經(jīng)通過新思科技數(shù)字和定制設(shè)計(jì)工具和流程實(shí)現(xiàn)了多次成功的測試流片，從而更好地推動(dòng)三星的3納米全環(huán)繞柵極（GAA）技術(shù)被采用于對(duì)功耗、性能和面積（PPA）要求極高的應(yīng)用中。此外，新思科技還獲得了三星的"最先進(jìn)工藝"認(rèn)證。與三星SF5E工藝相比，采用三星晶圓廠SF3技術(shù)的共同客戶將實(shí)現(xiàn)功耗降低約50%，性能提高約30%，面積縮小30%左右。
三星電子晶圓代工事業(yè)部設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)副總裁Sangyun Kim表示："當(dāng)前，高要求的便攜設(shè)備、高性能計(jì)算和AI應(yīng)用需要突破小幾何尺寸的功耗和性能水平極限。我們與新思科技在EDA設(shè)計(jì)流程認(rèn)證方面的長期合作，為共同的客戶提供了顯著的功耗、性能和面積（PPA）優(yōu)勢。"
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攜手合作，持續(xù)推進(jìn)芯片發(fā)展
一直以來，新思科技攜手三星持續(xù)創(chuàng)新，推動(dòng)智能互聯(lián)的世界所需要的芯片工藝發(fā)展。三星精簡了3納米工藝開發(fā)的成本和時(shí)間，并根據(jù)PPA設(shè)計(jì)指標(biāo)有效地評(píng)估了其工藝選項(xiàng)。三星持續(xù)將新思科技DSO.ai?技術(shù)納入其流程中，利用機(jī)器學(xué)習(xí)能力來大規(guī)模地探索芯片設(shè)計(jì)工作流程中的選擇，并加快其流程的開發(fā)。
新思科技電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化（EDA）事業(yè)部總經(jīng)理Shankar Krishnamoorthy表示："新思科技與三星的戰(zhàn)略合作讓我們能夠保持與他們的每一代工藝技術(shù)同步發(fā)展。通過提供在先進(jìn)的三星3納米技術(shù)上認(rèn)證的業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的EDA設(shè)計(jì)流程，我們的共同客戶可以極大限度地提高其先進(jìn)SoC的設(shè)計(jì)能力，更快地實(shí)現(xiàn)成功的流片。"
關(guān)于新思科技
新思科技（Synopsys, Inc.，納斯達(dá)克股票代碼：SNPS）是眾多創(chuàng)新型公司的Silicon to Software?（"芯片到軟件"）合作伙伴，這些公司致力于開發(fā)我們?nèi)粘Ｋ蕾嚨碾娮赢a(chǎn)品和軟件應(yīng)用。作為全球第15大軟件公司，新思科技長期以來一直是電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化 (EDA) 和半導(dǎo)體IP領(lǐng)域的全球領(lǐng)導(dǎo)者，并且在軟件安全和質(zhì)量解決方案方面也發(fā)揮著越來越大的領(lǐng)導(dǎo)作用。無論您是先進(jìn)半導(dǎo)體的片上系統(tǒng) (SoC) 開發(fā)者，還是編寫需要最高安全性和質(zhì)量的應(yīng)用程序的軟件開發(fā)者，新思科技都能夠提供您所需要的解決方案，幫助您推出創(chuàng)新性、高質(zhì)量、安全的產(chǎn)品。如需了解更多信息，請(qǐng)?jiān)L問www.synopsys.com/zh-cn
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